本报讯（融媒体中心 李玉凤）在日前举行的2024集成电路产业链协同创新发展交流会暨中国集成电路创新联盟大会上，颁发了“第七届集成电路产业技术创新奖”（以下简称“IC创新奖”）。北京经济技术开发区（北京亦庄）企业东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司（以下简称“东方晶源”）自主研发的CD-SEM（关键尺寸量测设备）成功斩获第七届IC创新奖——成果产业化奖。

　　“CD-SEM获此奖项，实至名归。”东方晶源相关负责人表示，“IC创新奖”重点鼓励集成电路技术创新、成果产业化、产业链上下游合作，是集成电路产业最重要的技术奖项之一。自2022年凭借电子束缺陷检测设备EBI产品获得第五届IC创新奖——技术创新奖后，这是东方晶源电子束设备第二次摘得IC创新奖。

　　斩获行业技术创新奖的“亦庄造”设备到底有何过人之处？

　　有着“微观照相机”之称的SEM（扫描电子显微镜），是一种高端的电子光学仪器，可以看到纳米级的尺度。半导体专用设备CD-SEM，用于集成电路硅片图形关键尺寸量测，是良率控制核心设备，可谓一款“大国重器”，对半导体产业发展的意义重大。然而，由于核心技术被国外掌握，该类设备长期被国外垄断，国内市场空白。

　　专注于集成电路良率管理的国家级专精特新“小巨人”企业东方晶源，从2014年创立之初便立志要啃下这块“硬骨头”，继2019年成功推出国内首台电子束缺陷检测设备EBI之后，于2021年又先后推出12英寸CD-SEM和6&8英寸兼容CD-SEM设备，成功突破多项关键技术，如高速高精度硅片传输定位、图像像差补偿等，创新性地提出了复合高精度定位技术、电磁复合偏转器及多级视场像差校正方法，从而大幅提升了设备性能与良率优化能力。

　　目前，东方晶源CD-SEM产品已广泛应用于多个制程领域，包括12英寸≥28nm逻辑制程、3D-NAND制程、DRAM制程，以及8英寸Si、MEMS制程和6英寸第三代半导体SiC、GaN、GaAs等化合物制程，成功获得国内多家晶圆制造头部企业认可，具有极高的性能表现和可靠性，市场认可度高。

　　“检测、量测设备是集成电路制造过程中进行良率控制的关键设备，东方晶源已经成功布局EBI、CD-SEM、DR-SEM（电子束缺陷复检设备）等关键领域。未来，东方晶源将继续在电子束检测、量测领域深耕，不断进行技术突破与产品创新。同时，将充分发挥公司在计算光刻OPC等软件方面的优势，将软硬件进行协同，为国内集成电路制造良率管理探索全新路径。”该负责人表示。