本报讯（融媒体中心 李玉凤）日前，由SPIE(国际光学工程学会)举办的第49届先进光刻及成型技术大会在美国加州圣何塞拉开帷幕。作为半导体行业关于光刻和图形成型技术最具影响力的国际会议，吸引了来自全球各地的专家、学者带来近600篇论文，涉及极紫外光刻、新型图形技术、微光刻的计量、检验和过程控制等六大领域。

　　北京经济技术开发区企业东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司（简称东方晶源）两项成果登上SPIE国际权威期刊，并受邀在会议现场通过演讲及海报展示等形式进行分享，成为本次大会上为数不多的“中国面孔”，展现出中国半导体检测量测领域的技术实力。

　　东方晶源被SPIE先进光刻及成型技术大会论文集收录的是两篇检测量测技术相关论文，展示企业创新技术实力以及充分将OPC（计算光刻软件）、CD-SEM（关键尺寸量测设备）等技术优势进行结合的创新探索精神。其中一篇论文研究证实了SEM轮廓数据用于OPC建模的可靠性和优势。该论文在演讲分享后，国际大厂的OPC部门对该技术方案产生了浓厚的兴趣并与东方晶源接洽探讨更多技术细节。

　　东方晶源相关负责人表示，后续东方晶源将在此领域持续发力，充分发挥在电子束检测量测和OPC领域的领先优势，为提升集成电路制造良率管理探索更多可能。

　　作为来自北京亦庄的集成电路企业，经过十年的技术攻关和不断积累，东方晶源已在计算光刻OPC、电子束量测检测领域取得重大突破，以填补多项国内空白的壮举，成为国内上述领域的领导者。未来，东方晶源将继续秉持创办初心，解国家之忧，创技术之先，在集成电路良率管理领域持续深耕。