“光刻用光源有三个非常重要的要素：窄线宽、大能量和高脉冲频率，然而窄线宽和大能量却相互矛盾，那么我们就需要想办法让窄线宽的能量变大……”科益虹源实验室内，“全副武装”的集成测试部经理沙鹏飞指着身旁的准分子激光器告诉记者，“这个激光器简单地来说是由两部分组成的，上层激光器，负责提供一个窄线宽，低能量的种子光，然后通过下层放大器进行放大，从而获得满足光刻需求的激光输出。这时候的激光光束就像是雕刻用的刻刀，在晶圆上刻画出几百亿个纳米级尺度的线条，满足“摩尔定律”的需要。”就这样，一台看似神秘而复杂的激光器，在沙鹏飞的简单介绍下，显得接地气起来

据了解，科益虹源目前主要有三个系列产品，分别是光刻用KrF(248nm)准分子激光器产品、光刻用干式ArF（193nm）准分子激光器产品、光刻用浸没式ArF（193nm）准分子激光器产品。科益虹源已经掌握了重频4kHz的193nm/248nm准分子光刻光源的核心技术，并开发出了原理样机。此类定型光源产品主要用于90nm和65nm以下节点的光刻机，并在更多i-Line升级领域逐渐占领更多市场。随着工业4.0的不断推进，更多工业智能领域应用的芯片将由90nm光刻机完成。248nm产品的技术基础与193nm具有较强的相关性，技术难度和开发成本略低，周期更快。在腔体设计和光学设计中只需要较小的改动，可以更快完成产品研制，推向市场。“科益虹源已经建立了193nm光源6kHz浸没式技术开发平台，同时也建立了248nm光源的技术开发平台。”  沙鹏飞表示

北京科益虹源光电技术有限公司成立于2016年7月，注册资本1.2亿，是国家02重大专项“浸没式曝光光源研制与小批量产品生产能力建设”的成果产业化载体，也是三城一区成果转化落地的一个实例。

“我们是目前国内唯一一支从事光刻准分子激光的研发团队，现已打破该技术的国际垄断局面，尤其是在国内专利布局上，目前国家在该领域里70%的专利都出自我们这个小团队。”科益虹源总经理杨军红告诉记者，“公司现在有将近50人，到明年8月我们会达到80人，基本上就可以满足我们未来2-3年的产品的生产规划。这些人基本上都是光电院的核心骨干人员，其中，博士有8名，硕士近20名。预计到2020年底，我们193nm(6kHz)的产品将跻身到国际最高端的准分子激光行列中。”

作为开发区光刻机零部件技术创新中心建设的牵头单位，科益虹源成功研发光刻用准分子激光系统样机并完成相关实验验证后，将开始向上海微电子装备（集团）股份有限公司提供五年的订单，该技术打破了Cymer（美国）和Gigaphton（日本）两家公司的垄断地位。目前，科益虹源即将完成国内第一台自主知识产权的90nm光刻机激光光源系统的研制。“落户开发区后，我们积极参与到开发区科技创新中心的建设中，也是开发区19个创新中心中第一批被授牌的企业，希望我们的努力可以为开发区2025智能制造示范区的建设贡献微薄之力。